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Alvos de titânio
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Alvos de titânio

Alvos de titânio

Padrão de matéria-prima: ASTM B265 / ASTM B348 / F67/ 136, DIN, AMS
Classes disponíveis: Gr1 / Gr2 / Gr5 /Gr7
Conformidade: ISO 9001/AS9100
Formatos: alvos redondos, alvos retangulares/planares, alvos tubulares, alvos-especiais e escalonados
Tamanho: Personalizado de acordo com desenhos ou especificações técnicas

O que é um alvo de titânio?

 

O alvo de Ti é um material de titânio de alta-pureza (maior ou igual a 99,5% de Ti) usado em sistemas PVD e de pulverização catódica para depositar filmes finos de titânio ou à base de titânio-em substratos.

Titanium sputtering target

É fabricado por meio de fusão avançada, forjamento e usinagem de precisão para atingir alta densidade, estrutura de grãos finos e desempenho de pulverização catódica estável.

 

Eles são comumente usados ​​na fabricação de semicondutores, displays LCD e OLED, eletrodos de memória, revestimentos ópticos e revestimentos PVD decorativos porque fornecem excelente adesão de filme, resistência à corrosão e uniformidade de revestimento.

Propriedades físicas e químicas de alvos de Ti

 

 

Propriedade

Valor típico

Densidade

4,50 – 4,52 g/cm³

Ponto de fusão

1668 ± 5 graus

Pureza

99.5% – 99.99% (2N5 – 4N)

Expansão Térmica

8.6 × 10⁻⁶ / K

Microestrutura e Qualidade Interna

Densidade maior ou igual a 99,5%

Estrutura uniforme-de granularidade fina

Sem delaminação

Sem inclusões visíveis

Sem porosidade ou rachaduras

Embalagem

Selado a vácuo + dessecante + caixa de madeira-à prova de choque

Tempo de espera

2–4 semanas para a maioria dos tamanhos

Faixa de tamanho alvo de Ti

 

Alvos planares e redondos

Tipo

Grossura

Largura / Diâmetro

Alvo retangular

Maior ou igual a 0,125 polegada

Menor ou igual a 12 polegadas

Alvo redondo

Maior ou igual a 0,125 polegada

1,0″ – 21,0″ (25,4 – 533,4 mm)

Alvo do tubo

Maior ou igual a 0,125 polegada

Menor ou igual a 12 polegadas

Rugosidade superficial

  • Superfície de pulverização catódica: Ra menor ou igual a 1,6 μm
  • Superfície sem{0}}sputtering: Ra menor ou igual a 3,2 μm
High purity titanium target
Controle e Inspeção de Qualidade
  • Análise de composição química
  • Teste de propriedades mecânicas
  • Inspeção dimensional e visual

Se necessário, você pode receber:

  • Certificado de teste de moinho (MTC)
  • Relatórios de inspeção

Capacidades personalizadas de alvo de titânio

 

Você pode personalizar totalmente os alvos:

1. Opções de Pureza

De 99,5% até 99,999%

2. Tamanho e espessura

  • Tamanhos não{0}}padrão suportados
  • Espessura mínima de usinagem: 1 mm

3. Controle de tamanho de grão

  • Controlado por tratamento térmico
  • Tamanho de grão de 20 – 200 μm disponível

4. Alvos vinculados

Você pode escolher placas de apoio em:

  • Cobre (Cu)
  • Alumínio (Al)
  • Molibdênio (Mo)

5. Acabamento de Superfície

Virando,moagem,Polimento,Jateamento de areia

6. Formas Complexas

Alvos escalonados,Segmentar-alvos vinculados,Contornos especiais

Custom Titanium Target

Perguntas frequentes sobre alvo de titânio

O alvo de pulverização catódica de titânio pode ser usado em pulverização catódica de alta-temperatura ou alta-potência?

Sim.
Alvos de alta-pureza são adequados para a maioria das altas-temperaturas de pulverização catódica.
Para cargas de energia extremas ou produção industrial contínua, os alvos Grau 5 (Ti-6Al-4V) proporcionam maior resistência mecânica e estabilidade térmica.

Os alvos de pulverização catódica de titânio podem ser exportados internacionalmente?

Sim.
Você pode enviar por via aérea, marítima ou expressa (DHL, FedEx, UPS).
Todas as embalagens de exportação são protegidas contra-impacto, umidade-e oxidação-.

Qual é a diferença entre alvos e alvo PVD de titânio?

Os alvos PVD de titânio são otimizados especificamente para pulverização catódica de alta-precisão, oferecendo melhor eficiência de deposição e uniformidade de filme. Os alvos padrão são mais versáteis e adequados para uma ampla gama de aplicações de revestimento industrial, embora nem sempre otimizados para sistemas PVD de ultra-alta{3}}precisão.

 

 

 

 

Processo de produção

 

Titanium Target Process

 

 

 

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